در یک خبر مهم منابعی به Tech News Taiwan اعلام کرده‌اند که اینتل فناوری 10 نانومتری خود برای لاین آپ گرافیک‌های Xe بعد از DG1 را کنار خواهد گذاشت. بجای آن تیم آبی با TSMC همراه می‌شود تا گرافیک‌های آینده Xe در نودهای پردازشی 6 نانومتر و 3 نانومتر این کمپانی تولید شوند.
در طی کنفرانس تحلیل مالی Morgan Stanley، جناب George Davis مدیر ارشد مالی اینتل به تازگی اعتراف کرده بود که فناوری 10 نانومتری اینتل به خوبی عمل نمی‌کند. بازده ضعیف یعنی سطح تولید پایین که باعث می‌شود اینتل باز هم شاهد کمبود پردازنده در بازار باشد.
گرافیک‌هایی با طراحی چیپلت
به شکل طبیعی این یعنی لیتوگرافی 10 نانومتری اینتل از سطح ایده آل برای تولید انبوه لاین آپ گرافیک Intel Xe پایین‌تر است. طراحی چیپلت مانند Xe نیازمند تولید انبوه بسیار است تا هزینه‌های ساخت را متعادل نگه دارد. اینتل مسر مناسبی در پیش روی خود برای تولید گرافیک‌های Xe در کارخانه‌هایش در اختیار ندارد مگر آن که به استفاده از فناوری 14 نانومتری ادامه دهد. مشخصا تولید گرافیک‌های 6 نانومتری و 3 نانومتری Intel Xe توسط TSMC گزینه بسیار بهتری برای شرکت است.
اگر این شایعه درست باشد، پیامدهای بسیاری خواهد داشت. تا به این جا مشخصات لو رفته و همچنین اطلاعات رسمی خود اینتل نشان می‌دهند که DG1 یک گرافیک پایین رده تا میان رده است که از نظر بهره وری عقب‌تر از نمونه‌های Nvidia و AMD قرار دارد. نسل دوم Xe بر پایه فناوری 6 نانومتر می‌تواند باعث شود اینتل دوباره از نظر لیتوگرافی پیشی بگیرد. گرافیک‌های بزرگ‌تر نسل دوم Xe با بیش از 192 واحد اجرایی با فرکانسی در محدوده 2 گیگاهرتز می‌توانند رقیب جدی برای انویدیا و AMD در سال 2021 باشند.
منبع : سخت افزار
